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精密激光刻蝕技術(shù)的原理及其典型應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間:2018-07-10 來源:元祿光電

激光刻蝕技術(shù)原理

激光刻蝕的基本原理是將高光束質(zhì)量的小功率激光束(一般為紫外激光、光纖激光)聚焦成極小光斑,在焦點(diǎn)處形成很高的功率密度,使材料在瞬間汽化蒸發(fā),形成孔、逢、槽。其加工工藝包括激光微納切割、劃片、刻蝕、鉆孔等。

 

激光刻蝕技術(shù)特點(diǎn)

激光刻蝕的特點(diǎn)是利用激光具有的無接觸加工、柔性化程度高、加工速度快、無噪聲、熱影響區(qū)小、可聚焦到激光波長級的極小光斑等優(yōu)越的加工性能,獲得良好的鉆孔、劃片、刻蝕和切割尺寸精度和加工質(zhì)量,尤其是與某些材料(如聚酰亞胺)相互作用是屬于光化學(xué)作用冷加工,可獲得無碳化效果,在電子半導(dǎo)體材料加工中應(yīng)用十分廣泛。

 

元祿光電激光刻蝕參數(shù)表

激光器

光纖激光器

綠光激光器

紫外激光器

激光波長

1064nm

532nm

355nm

激光功率  

10/20W

10W

3/5/7/10W

最小聚焦光斑  

0.02mm

刻蝕線寬

5-100μm可調(diào)(視材料與激光器而定)

刻蝕速度  

3000mm/s

加工范圍  

600mmX600mm(可根據(jù)客戶要求定制)

單次最大幅面

110mmX110mm  (可選配)

CCD自動(dòng)定位精度

±3μm

電機(jī)工作臺定位精度

±2μm

電機(jī)工作臺重復(fù)精度

±1um

設(shè)備尺寸  

1650mmL×1300mmW×1670mmH

設(shè)備重量  

2000kg

可處理文件格式  

標(biāo)準(zhǔn)Gerber文件,DXF文件,PLT文件等

 

紫外激光刻蝕技術(shù)典型應(yīng)用

1)薄膜激光刻蝕應(yīng)用

優(yōu)點(diǎn):  

高重復(fù)率,高功率 
快速材料去除率 
無化學(xué)腐蝕對環(huán)境的污染

 

ITO鍍膜激光刻蝕機(jī)是由激光對ITO GlassITO Film上的ITO鍍膜實(shí)施電極刻蝕加工的精密設(shè)備。可在玻璃、PET基底上ITO鍍膜、多晶膜和其他氧化物薄膜上大范圍內(nèi)進(jìn)行各種圖案,各種尺寸的精密、高速刻蝕,加工多種電極。尤其適用于手機(jī)觸摸屏的電極刻蝕。

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ITO玻璃激光刻蝕

 

2)太陽能電池激光劃片應(yīng)用

優(yōu)點(diǎn): 

整機(jī)結(jié)構(gòu)合理、劃片速度快、精度高、功能全、合項(xiàng)性能指標(biāo)穩(wěn)定可靠,故障率低非接觸加工加工成品率高,適用面廣

操作簡單方便,能24小時(shí)長期連續(xù)工作,節(jié)能環(huán)保

采用圖形化用戶界面(GUI),友好的人機(jī)界面,可實(shí)時(shí)顯示切割軌跡,操作簡單直觀 

可選配圖像自動(dòng)識別處理和定位功能

 

太陽能電池是通過光電效應(yīng)或者光化學(xué)效應(yīng)直接把光能轉(zhuǎn)化成電能的裝置。薄膜太陽能電池生產(chǎn)的流程:準(zhǔn)備基板(TCO導(dǎo)電玻璃)——玻璃磨邊——玻璃清洗——1064激光劃線——二次清洗——裝夾具升溫預(yù)熱——PECVD沉積非晶硅膜——冷卻卸夾具——635激光劃線——PVD磁控濺射AL——635激光劃線——測試——老化——激光清邊——三次清洗——焊電極線——層壓——裝邊框。對薄膜太陽能電池進(jìn)行激光劃片,熱影響區(qū)小,劃線質(zhì)量優(yōu)越。無接觸式加工避免刀片加工產(chǎn)生的應(yīng)力,可以有效提高硅片改片的優(yōu)等品率,同時(shí)對電池片劃線質(zhì)量也有很大的改善。可選配CCD圖像處理系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)特殊規(guī)格電池片的精密劃線。

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光伏太陽能電池激光刻蝕

3)激光清邊 

優(yōu)點(diǎn):

不需使用任何化學(xué)藥劑和清洗液,綠色環(huán)保 

非接觸式清洗,無機(jī)械作用力,無變形,效率高,節(jié)省時(shí)間 

可達(dá)到常規(guī)清洗無法達(dá)到的清潔度 

 

還可在不損傷材料表面的情況下有選擇性地清洗材料表面的污染物

激光清邊速度快并且無污染,通過界面友好的專用控制軟件,可完成多路激光同時(shí)工作。可用于非晶硅薄膜太陽能電池板周邊鍍膜的刻線絕緣、掃除和清理。


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